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當前位置:首頁產(chǎn)品中心導熱儀TFA-薄膜綜合物性分析儀TFA L59薄膜綜合物性分析儀

薄膜綜合物性分析儀

產(chǎn)品簡介:新型林賽斯 薄膜綜合物性分析儀 TFA L59,是一款高度集成、易于操作的薄膜物性測量平臺。它采用獨特預結構化芯片,支持多種沉積方法,可在單次測量中同時精確獲得薄膜的導熱系數(shù)、塞貝克系數(shù)、電阻率等多種關鍵物理參數(shù),溫度范圍覆蓋-160°C至280°C,是半導體、陶瓷及有機材料薄膜研發(fā)的工具。

產(chǎn)品型號:TFA L59

更新時間:2026-02-05

廠商性質:生產(chǎn)廠家

訪問量:7260

服務熱線

86-021-50550642

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薄膜綜合物性分析儀

新型林賽斯 薄膜綜合物性分析儀 TFA L59 設備可用于表征薄膜的物理特性,它是一個高度集成且易于使用的測量平臺。


TFA L59 基本配置包括一個測量芯片(樣品可以輕松地沉積在其上面)以及一個用于提供所需環(huán)境條件的測量腔室。根據(jù)應用的不同,該配置可與鎖相放大器和 / 或強電磁體配合使用。測量通常在高真空條件下進行,并且在測量過程中,利用液氮(LN2)和功率強勁的加熱器,樣品溫度可控制在 -160 ℃ 至 280 ℃ 之間。


該芯片融合了用于測量導熱系數(shù)的 3ω 測試技術,以及用于測定電輸運性能的四探針范德堡測試結構,塞貝克系數(shù)可以通過位于范德堡電極附近集成的電阻溫度計來測量。為了便于樣品制備,可以使用剝離箔掩模或金屬蔭罩。


這種配置允許對通過物理氣相沉積(PVD,例如熱蒸發(fā)、濺射、分子束外延)、化學氣相沉積(CVD,例如原子層沉積)、旋涂、滴鑄或噴墨打印等方法制備的樣品,在一步操作中幾乎同時進行表征。


該系統(tǒng)的一大優(yōu)勢在于能夠在一次測量過程中同時測定多種物理性質。所有的測量都是在相同的(面內)方向上進行的,因此具有很強的可比性。

獨特功能
  • 基于芯片的測量裝置,配備集成且預先結構化的芯片作為耗材
  • 對于不同的材料、厚度、電阻以及沉積方法具有高度的靈活性
  • 高質量且易于使用的薄膜(nm 至 μm 范圍)表征系統(tǒng)
  • 對于半導體、金屬、陶瓷和有機材料,在同一樣品上沿相同方向進行的單次測量過程中可完成所有特性參數(shù)的測量。
  • 易于樣品制備和處理
  • 寬廣的溫度范圍(-160 ℃ - 280 ℃)



林賽斯 薄膜綜合物性分析儀 TFA L59


規(guī)格參數(shù)
類型TFA L59

溫度范圍:RT - 280 °C
-160 °C - 280 °C
電子電路:集成式
樣品厚度:5 nm - 25 μm(取決于樣品)接口:USB
測量原理:基于芯片構造(預結構化測量芯片,每盒 24 個)導熱系數(shù):0.05 - 200 W/(m?K)
樣品制備方法:物理氣相沉積(濺射、蒸發(fā))、原子層沉積、旋涂、噴墨打印等電阻率:
0.05 - 1 × 106 S/cm
測量參數(shù):導熱系數(shù) (3ω 法)
比熱容
塞貝克系數(shù):5 - 2500 μV/K
可選模塊:塞貝克系數(shù) / 電導率 / 電阻率
霍爾常數(shù) / 霍爾遷移率 / 電荷載流子密度
(電磁體(磁場強度)可達 1 T,永磁體(磁場強度)為 0.5 T)
霍爾遷移率:1 - 107(cm2/Volt sec)
真空度:可達 10-5 mbar載流子濃度:107 - 1021(1/cm3)
應用
適用于表征 nm 至 μm 厚度范圍的薄膜的物理特性,如半導體、金屬、陶瓷和有機材料。



 

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